——半导体/医疗企业的“零氰”防线
光刻机因0.1mg/L氰离子腐蚀导轨、手术器械因氰残留导致患者感染……十亿级设备毁于微量氰!除氰剂以无腐蚀、零残留的特性,成为高端制造的“隐形卫士”。
某晶圆厂清洗废水含氰,腐蚀设备导致定位偏移:
► 导轨锈斑使光刻精度偏差3μm,月报废晶圆超千片;
► 除氰剂中性pH投加(pH6-9),不损伤不锈钢设备,氰残留<0.05mg/L,设备故障归零56。
骨科器械电镀产线曾因氰残留引发医疗事故:
► 除氰剂处理后器械表面零吸附,通过ISO10993生物相容测试;
► 135℃高温灭菌无分解,杜绝术中氰化物释放风险910。
汽车传感器镀金层需绝对均匀,氰化物波动导致镀层发花:
► 除氰剂深度去除络合氰(如铁氰化物),浓度波动率<5%;
► 电镀液纯净度提升,金层厚度偏差缩至0.08μm(原0.3μm)46。
导弹连接器镀银层需抗极端腐蚀:
► 未除氰工件盐雾试验48小时锈蚀;
► 除氰剂处理后的工件通过96小时测试,接触电阻波动<1mΩ69。
微量氰=定时炸弹!除氰剂以医疗级纯净、半导体级精准——守良率、护安全、保镀层!